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4．壁面衝突（スパッタリング）のモデル化（分子動力学（MD

単原子交互積層法により作製した L1 0

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革新的材料開発を支える「ナノ空孔」標準

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軟X線深さ分解XMCD法で探る磁性薄膜の表面・界面

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鉄シリサイド太陽電池の研究開発に携わった事もあり、計測器機を手作り

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製造条件に左右されない 高安定なアモルファス酸化

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研究課題名 多階層シミュレーションによる新規多様材料

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D-7．水素同位体イオンとHeイオンによるスパッタ収率の入射角度依存性

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