下水処理場におけるノニルフェノール関連
物質のLC/MSを用いた分析
永光 弘明
*
加藤 康伸* 熊谷 哲** 中野 武***
*姫路工業大学工学部
**姫路工業大学環境人間学部
*** 兵庫県立公害研究所
緒言
〇我々は瀬戸内海の播磨灘においてノニルフェノール(NP)のムラサキ
イガイへの濃縮や海底底質の堆積を調査し、高い濃縮を確認した。
〇NPに関しての河川水中での濃度や下水処理場放流水からのNP濃度
は低い値であり、播磨灘におけるNPの高い濃縮は下水処理場放流
水やその他の排出源から自然水中に流入したノニルフェノールエト
キシレート(NPEO)の分解生成による寄与が大きいと考えられる。
〇NPEOの自然水中における分解生成に関しての報告はまだ少ない為、
今回下水処理場におけるNPEOからNPへの生成過程の調査と分解過
程を検討する為、流入下水、好気性汚泥処理槽、放流を採取し分析
した。
2000年AP/APE 国内販売量
アルキルフェノールの生成過程
下水採取地

下水処理過程
分析手法
測定条件
NP GC/MS-MS 条件
測定機器: Finnigun GCQ
Column : J&WRtx5MS
30m 0.25mmid
Injection volume: 2μL
Injection Temp: 300℃
GC Temp program:60℃(1min)
-10℃/min-300℃(10min)
Precursor ion m/z=163
Product ion m/z=135
回収率: 水・底質 100%
定量下限:水 0.015μg/L
底質 0.015μg/g (wet)
NPEO LC/MS-SIM 条件
測定機器: Finnigun LCQ
HPLC HEWLETTPACARD 1100
Column:C30-VG-5 150mm 4.5mm i.d
Injection volume: 20μL
Solvent: 85%MeOH : 15%H2O
(Containing 0.05mM ammonium acetate)
Flow rate :0.50ml/min (40min)
Column Temp: 40℃
SIM Monitor ion NPEO2-NPEO9
m/z = 326.8 370.7 414.8 458.9 502.5
546.5 590.4 635.6
回収率:水 NPEO2-NPEO6 80%
NPEO7-NPEO9 40%-50%
定量下限:水 0.06μg/L
下水中のNPのスペクトルとクロマトグラム
下水中のNPEOのクロマトグラム
下水処理過程での
ノニルフェノール関連物質の濃度変化
25
20
NP
NPEO合計
μg/ L
15
10
5
0
流入下水
好気性汚泥処理水
放流水
下水処理過程での
NPエトキシレートの濃度変化
mo l/ l
0 .0 0 3 5
0 .0 0 3
0 .0 0 2 5
0 .0 0 2
0 .0 0 1 5
0 .0 0 1
0 .0 0 0 5
NPEOn
NP EO 9
NP EO 8
NP EO 7
NP EO 6
NP EO 5
NP EO 4
NP EO 2
流入水
好気性汚泥処理水
放流水
NP EO 3
0
下水処理過程におけるNPEOnの存在変化
結果と考察
1.
NPに関しては、流入下水から放流下水までの下水処理過程
において95パーセント以上の減少が観察された。
2.
NPEO9からNPEO4に関しては好気性汚泥処理を受けること
により大きな減少が起こるが、NPEO3からNPEO2は好気性
処理により微量の増加が確認された。
3.
過去の報告によるNPEOからNPへの分解生成は嫌気性処理
を経て起こるのではなく、今回好気性処理のみによる下水処
理場でも確認された。また自然水中におけるNPへの分解生
成が懸念されるのことからも下水処理場もしくは工場廃水か
らのNPのみの測定ではなくNPEOを含めた調査が今後必要で
ある。
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下水処理場におけるノニルフェノール関連物質のLC/MSを用いた分析