Slide
Show JP
☰
探り
ログイン
ユーザーアカウントの作成
Upload
×
ダウンロード
No category
13.3 Si プロセス・配線 - 早稲田大学ナノ理工学研究機構
低温高品質アルミナ成膜装置
日本磁気科学会・磁場発生分科会 「強磁場発生の新しい潮流」
High-kゲート絶縁膜の誘電率を向上させる手法 [ PDF：920KB ]
![High-kゲート絶縁膜の誘電率を向上させる手法 [ PDF：920KB ]](http://s1.slideshowjp.com/store/data/001319798_1-cd7182bec977a74109d9b209d2f60348-260x520.png)