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次世代リソグラフィー EUV やナノインプリントが競うも、本命は ArF 延命
MATRICS X810シリーズ
日本物理学会 in 広島 報告レポート 相田 裕也 「発表テーマ」 電荷交換
高出力化の課題を克服しつつある 極端紫外(EUV)光源
課 題 名 極端紫外(EUV)光源開発等の先進半導体製造
ASML が EUV 露光装置の開発状況を説明、量産導入は「10nm 世代の