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高出力化の課題を克服しつつある 極端紫外（EUV）光源
スズドロップレットターゲットを用いた レーザー生成プラズマの挙動
コヒーレント白色光を用いた二酸化炭素の計測
課 題 名 極端紫外（EUV）光源開発等の先進半導体製造
No. 196 - 財団法人レーザー技術総合研究所
プラズマによる短波長光源研究の進展とその物理
リソグラフィ技術の最新動向
レーザー駆動極端紫外（EUV）光源の高効率化 平成25年度レーザー研
No.331 極端紫外（EUV）光源開発研究の現状
ASML が EUV 露光装置の開発状況を説明、量産導入は「10nm 世代の
波長分離ミラーのレーザー損傷耐性 −第9, 10回データベース化試験−
マイクロチップの性能向上（独） - 新エネルギー・産業技術総合開発機構
次世代リソグラフィー EUV やナノインプリントが競うも、本命は ArF 延命
3．ナノ接合・集積によるデバイス化プロセス
7 2. 分野構成の背景と概要 大阪大学レーザーエネルギー学研究センター
.photonic frontiers 分光法を最先端に推し進める 高次高調波発生
次世代の LSI を実現する光
コヒーレントEUV光を利用した半導 体マスクパタン幅評価装置
3．EUV 光源や ICFにおけるレーザープラズマ相互作用の初期過程
半導体マスク製造技術の革新
新考案のミラー光学系で EUV リソグラフィ用 マスクの高分解能観察に成功
レーザー生成プラズマ光源の放射流体物理， 変換効率，技術的課題
Opening Session - Photomask Japan 2016
